메뉴 건너뛰기

XEDITION

Our Business

사업분야

Main Pattern Exposure Unit

Main Pattern Exposure Unit
반도체/TFT LCD 등 회로 구현이 필요한 제조 공정에서 UV LED 광원을 조사하여 패턴을 형상화 하는 장치

특징
- i-line(365nm) 파장대역
- 미세회로 패턴 구현에 최적화
- 공랭식 온도제어
- 에너지 밀도 ±90%
- 폐처리 비용 Zero 및 Lamp 대비 13배 수명을 통한 유지관리 비용 대폭 절감
적용분야
- 디스플레이 노광기 Stepper 노광 설비, Etc
- PCB 컨택 노광 설비 (Size 250x250, 610x510 등)

차별성

Wafer Edge Exposure Unit
비교항목 Stepper 노광장치 PCB 컨택 노광장치
수은램프 UV LED 자사제품 수은램프 UV LED 자사제품
파장대역 280~480nm 365m, 385nm, 405nm 280~480nm 365m, 385nm, 405nm
광출력 500mW/cm2 1,500mW/cm2 10~25mW/cm2 10~25mW/cm2
소비전력 36kW 10W 10kW 1.5kW
예열시간 20min 없음 20min 없음
광원 수명시간 1,500H 20,000H 이상 1,500H 20,000H 이상
광원교체횟수 6회/1년 0.5회/1년 6회/1년 0.5회~1회/1년

UV LED EEU Application

  • PCB AREA 노광
    i-line 365nm
  • PATTERN 노광
    i-line 365nm
위로